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    Tanner - 硅光器件设计、Foundry Process Integration和Test Chip设计解决方案

    更新日期:2017-12-21 13:54:24  浏览次数:4032次  作者:admin  【打印此页】  【关闭

      在今天的模拟电路设计的世界里,速度比以往任何时候都更重要。为了在高效、高生产力的市场竞争,你需要一个已经证明它能够加速商业成功项目的设计周期的工具集奥。

           

          Tanner EDA的 L-Edit?通过组合最快速的渲染,提供强大的功能,超过最苛刻的用户需求,满足您的需要。主要的模拟/混合信号集成电路设计PC平台工具,使您可以使用最少的培训开始工作??焖倩嬷坪捅嗉?/span>,比其他布局工具使用更少的按键和鼠标点击。使用强大的功能,比如交互式DRC,对象捕捉,和对齐,使工作更有效率,节省时间和金钱肯。


           L-Edit通过读写OpenAccess数据库,提高您的生产力,,使您可以轻松地与第三方分享设计工具。在团队中与多用户工作,当你开始编辑cell时,支持隐性锁定,然后关闭窗口时释放它。通过直接使用foundry提供的文件节省时间,让你避免手动设置技术信息思。

    对于物理设计工具,减少CAD支持负担,使您能够专注于其他至关重要的任务。


    精确的创建版图

           L-Edit提供更精确,可以执行复杂的布尔和派生层操作任意多边形的形状和曲率。执行与、或、异或、减、增长和缩小对象。显示坐标和距离值在任何技术单元,并在任何形状周围自动添加?;せ?。进一步提高您的生产力,将多个布局函数映射到一个单一的按键。


    ●执行完整的层次化版图,在无限数量的层上,任意角度和和曲线多边形无限数量的层  

    ●使用正交、45°、all-angle和弯曲绘图模式  

    ●市场上最快的渲染,查看你的设计

    ●使用命令行接使运行自动化


    使用SDL加速版图设计


    ●读网表和自动生成参数化???,加入你的设计中。

    ●显示飞线,允许最小化布线拥塞

     标识已存在的几何结构作为指定线网的一部分,且通过线网撕裂几何结构

    ●执行工程改变命令(ECO)且高亮网表中的差异

    ● 在T-Spice中使用网表文件,HSPICE, PSpice, 结构化 Verilog, 或 CDL 格式

    ● 使用Tanner的SDL 短路和开路连接性检查器检查连接性

    ● 使用 Tanner的 auto-router组装芯片


           L-Edit还支持参数化的cell称为T-cell。与T-cell,创造多功能Cell,由用户定义的输入参数和版图生成代码组成。T-cell扩展传统的几何cell的灵活性和自动化,包括L-Edit的用户可编程接口(UPI)。

           L-Comp?,一套高级组合功能,提供了一个简单的工具箱,用于创建T-Cell 代码。使用L-Comp有效地在设计中创建、放置和对齐单元实例


    有效地导航


         L-Edit 提供内建的库导航器,使你可以:

        有效跨越自顶向下和自底向上的层次化设计,无实体单元视图,或按修改日期排列单元视图.

        从库文件、其他设计文件或当前设计数据库拖放单元到版图

    ●可向下到层次化的任意层次查看版图

    ●锁定或解锁单元以?;ど杓撇皇苋魏胃谋?/span>

    ●在当前层次或整个设计中,易于用另一单元替代一单元的实例

    ● L-Edit的多库支持,最大化IP复用

    ●在原理图、版图和LVS报告间交叉查看,且高亮节点或器件


    整个编辑过程中获得完全控制


          L-Edit提供了足够的灵活性和控制需求以掌握编辑过程。通过同时编辑多个对象的属性可以大大简化过程。使用L-Edit,您可以立即进入任何对象的层次结构,使其容易编辑边缘、角和弧。您可以快速伸展或收缩多个边缘用于多个版图。

    ●使用虚拟层板,从版图中直接改变当前的绘图层

    ●执行无限次的撤销和重做操作

    ●执行任意角度旋转、翻转、合并、咬和切片操作

    ●通过捕捉光标到对象顶点、边缘、中点、中心点、交叉点和实例,加速绘图和编辑

    ●执行一键式水平或垂直对齐对象、等距对象、或拼贴对象水平,垂直或二维阵列

    ●指定一个参考点进行编辑操作,如对象旋转、翻转、移动,或使用基点位置进行实例放置


    通用工作环境


          L-Edit易用性的好处,节省时间和金钱

    ●用得起、可定制、容易管理的工具,提供强大的功能

    ●提供快速学习曲线

    ●使您可以导入和导出GDS、OASIS、DXF,、Gerber 和 CIF 文件格式

    ●提供多语言菜单(英语、日语、简体和繁体中文,德语,意大利语,和俄语)

    ● 定制和过滤层调色板只显示层中使用的文件,当前单元,或单元及其层次结构,允许您更快地完成你的版图

    ●使您能够轻松地剪切和粘贴版图到您的文档流


    从参数化器件生成版图


          HiPer DevGen 对于大多数器件提供版图生成器。其对于任何工艺易于配置以确保DRC正确的版图。器件包括MOSFET、电阻、电容生成器。集成SDL的HiPer DevGen 可识别电流镜和差分对并生成考虑寄生、保证最好的匹配的一致的、高质量的版图。对于特定器件,使用L-Edit的自动版图T-Cell生成器快速完成T-Cell库。


    创建自动化宏


           L-Edit强大的用户可编程接口(UPI)允许您创建自动化版图布局、几何综合、批量验证和先进分析的宏。您可以进一步提高您的生产力,将多个版图函数映射到一个单一的按键。UPI宏都使用TCL,C和c++语言编写,且可以直接在L-Edit中执行或编译作为DLL。


    使用交互式DRC修改版图

    编辑版图时,L-Edit交互式DRC实时显示违反规则,有助于您第一次创建紧凑、无错误的版图。交互式DRC在同一单元的对象和单元层次化的底层之间同时检查规则违反。


    节点高亮简化验证


          L-Edit 节点高亮提供可视化连接的节点高亮,使你可以快速查找和定位LVS问题。

    ●指向版图中的一个对象,不管层次结构,显示所有的基于一组连接规则几何连接到对象。

    ●高亮显示原理图网表和从版图提取的网表的差异

    ●以不同的颜色查看多个节点

    ● 向下追踪短路和开路

    ● 在LVS期间,显著提高设计效率



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