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    Tanner EDA

    更新日期:2018-01-02 10:07:24  浏览次数:9500次  作者:admin  【打印此页】  【关闭

           Tanner是Mentor Graphics公司面向数?;旌系缏?、模拟电路和MEMS设计等研发的集成电路设计工具。其早在1988年就已经面世,至今已有28年历史。Tanner工具功能强大,从电路设计、版图设计到仿真验证一应俱全;且易学易用,目前在国内外有很高的知名度,当前用户约有4000多个,分布在全球64个国家,如图1所示。奥



    成功案例



    图1   Tanner成功案例


    数?;旌仙杓屏鞒?/span>

    图2 Tanner数?;旌仙杓?/span>流程图




    Tanner数?;旌仙杓屏鞒淌钦攵阅D?/span>/数?;旌闲酒ㄖ粕杓频牧鞒?,如图2所示。该流程高度集成了IC设计从前端到后端的工具???,详见表1,具体包括电路设计(S-edit,混合信号仿真(T-spice等),波形编辑(W-edit),版图设计(L-edit)以及与目前业界Foundry厂兼容的物理验证(LVS DRC)等???/span>

    Tanner可与当前流行的设计工具与相应的网表格式相互兼容,降低了因支持不同的Foundry导致的风险,包含多Foundry认证的PDK。该工具直观性强,使用方便并有自己独立的运行平台。同时,Tanner支持WindowsLinux双重操作环境。思


    特点及优势

    完整的模拟/数?;旌?/span>IC全定制设计组件

    OpenAccess,LEF/DEF,LibertySDF数据格式支持

    支持多重抽象级网表仿真:行为级、??榧?、门级

    调试和验证支持System Verilog, Verilog, Verilog-AMS, Verilog-AVHDL等语言

    提供内建的库导航器,有效跨越自顶向下和自底向上的层次化设计查看单元视图

    自顶向下的混合信号仿真

    已验证的,与综合兼容的DFT支持

    高速时序分析

     全角度版图编辑

     实时DRC检查,DRCLVS验证与Calibre工具兼容

    使用SDL加速版图设计,可进行自动布局布线,支持HSPICE, PSPICE, VerilogCDL等格式数据导入

    支持参数化cell,称为T-cell,可用于可编程接口操作(UPI),创建自动化宏

    HiPer DevGen可实现参数化器件生成版图

    支持多Foundry工艺

    提供多语言菜单(英语,日语,简体、繁体中文,德语,意大利语和俄语等)


                                                      1  Tanner 数?;旌狭鞒坦δ苣??/span>

    Tanner AMS IC Design Flow

    电路图设计

    ?

    模拟版图加速

    ?

    波形编辑器

    ?

    DRCLVS

    ?

    Spice仿真

    ?

    2D参数提取

    ?

    行为级模型

    ?

    3D参数提取

    ?

    混合信号分析

    ?

    Calibre接口

    ?

    数字RTL仿真

    ?

    标准单元布局布线

    ?

    版图编辑器

    ?

    综合

    ?

    交互式或实时DRC检查

    ?

    静态时序分析

    ?

    节点高亮

    ?

    DFT

    ?

    Pad相关参数提取

    ?

    自动测试激励产生

    ?

    电路驱动版图(SDL

    ?

    芯片级绕线

    ?


    MEMS设计流程

    在当前MEMS设计领域,工具集成度比以往增加了很多。为了应对市场竞争,用户需要一个已经成功证明能够加速商业项目设计周期的工具集。Tanner MEMS流程不只把MEMS器件与相应模拟/数?;旌系缏飞杓频募杀涞眉虻?,同时也能够帮助用户改善MEMS器件的设计。因此,它能够减少培训时间,缩短设计周期。




    图3  Tanner L-edit组件



    Tanner MEMS设计流程的核心是L-edit,如图3所示。L-edit是一款MEMS版图编辑工具,可以进行曲线多边形和全角运算操作。相比于工程师使用的其他CAD工具,L-edit的版图规划更加清晰。用户可以快速的画出所需的图形,并方便地检查多层版图组合之间的重叠和相互关联。利用L-edit例如强大的曲线编辑、实时DRC检查、布尔运算、对象捕捉与对准等方面的优势,用户可以更有效的完成设计任务,并节约时间与成本。与此同时,在任意形状与曲率的多边形复杂运算和派生层生成操作上,L-edit的精度也可以做的非常高。这些操作包含AND,OR,XOR,Subtract,Grow Shrink等。它们允许用户根据简单的形状产生复杂的MEMS特殊结构。


    特点及优势

    同一环境下完整的ICMEMS设计解决方案

    25年的MEMS设计经验

    从版图生成3D MEMS模型

    支持导入和导出GDS、OASIS、DXF、Gerber CIF 文件格式

    L-Edit提供可视化连接的节点高亮,可以快速查找和定位DRCLVS问题

    高度可编程的MEMS版图设计工具,如曲线多边形、多角操作等

    参数化派生层产生工具,可实现特殊MEMS结构设计

    完整可视化的多图层几何图形设计

     利用工具栏便捷地生成、摆放和对准图形,执行任意角度旋转、翻转、合并、咬和切片操作,指定一个参考点进行编辑操作,如对象旋转、翻转、移动,或使用基点位置进行实例放置等

    针对MEMS工艺的DRC检查

    支持附带边界重构的DXF数据格式导入导出

    支持Luceda Photonics公司的IPKISS.eda工具, 进行硅光器件设计

     SoftMEMS工具选项

    —高级3D分析工具:机械,热,声,电,静电,磁性和流体分析

    —系统级仿真,包含ICMEMS协同仿真

    —根据3D分析结果,自动生成MEMS器件行为模型



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